文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201110228791.X

申 请 日：20110810

发 明 人：尹先升 高玮 赵月昌 杨筱琼 陈曦 赵秀娟

申 请 人：上海华明高纳稀土新材料有限公司

申请人地址：201613 上海市松江区繁华路81号

公 开 日：20120201

公 开 号：CN102337086A

代 理 人：罗大忱

代理机构：31242 上海金盛协力知识产权代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明提供了一种氟氧化镧铈稀土抛光液及其制备方法，所述氟氧化镧铈稀土抛光液，以水为载体，含有氟氧化镧铈抛光粉、分散剂和pH值调节剂；分散剂的含量为抛光液总质量的0.5～1wt％，pH值调节剂的用量，以抛光液pH值达到8.5-10.0为准，所述抛光液质量固含量为25-45wt％，铈占镧铈总质量的60-80wt％，氟的质量分数为氟氧化镧铈总质量的3-5wt％。本发明对氧化硅玻璃具有悬浮性稳定性高、抛光速率快、划伤少和耐磨性高的性能特征，对应稀土颗粒粒度小，通过添加pH值调节剂和有机分散剂，从而延缓了液料中磨料的沉降，提高了抛光液对玻璃基片的抛光速率，并减少了划伤的发生。

主 权 项：1.氟氧化镧铈稀土抛光液，其特征在于，以水为载体，含有氟氧化镧铈抛光粉、分散剂和pH值调节剂； 其中，分散剂的含量为抛光液总质量的0.5～1wt％，pH值调节剂的用量，以抛光液pH值达到8.5-10.0为准，所述抛光液质量固含量为25-45wt％，铈占镧铈总质量的60-80wt％，氟的质量分数为氟氧化镧铈总质量的3-5wt％。

关 键 词：抛光液 氧化镧 调节剂  抛光速率 分散剂  稀土 磨料  氧化硅玻璃  有机分散剂  耐磨性  玻璃基片  稀土颗粒  性能特征  制备方法  质量分数  抛光粉 悬浮性  沉降  液料  镧铈  

IPC专利分类号：C09G1/04(20060101)