文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201210060948.7

申 请 日：20120309

发 明 人：黄增立 王建峰 徐科 杨辉

申 请 人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 苏州纳维科技有限公司

申请人地址：215125 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号

公 开 日：20120912

公 开 号：CN102664350A

代 理 人：孙佳胤;翟羽

代理机构：上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)

语　　种：中文

摘　　要：本发明涉及微纳光子器件与激光技术领域。本发明提供一种等离子激元纳米激光器，包括一第一介质层、一第一隔离层、和一增益介质腔体，所述第一隔离层置于所述第一介质层的裸露表面上，所述增益介质腔体置于所述第一隔离层的裸露表面上，其特征在于，所述第一隔离层的厚度与所述增益介质腔体的纵向厚度的比值范围为小于0.5。本发明提供的一种等离子激元纳米激光器，优点在于，减少了激光的阈值。

主 权 项：1.一种等离子激元纳米激光器，包括一第一介质层、一第一隔离层、和一增益介质腔体，所述第一隔离层置于所述第一介质层的裸露表面上，所述增益介质腔体置于所述第一隔离层的裸露表面上，其特征在于，所述第一隔离层的厚度与所述增益介质腔体的纵向厚度的比值范围为小于0.5。

关 键 词：隔离层 增益介质 腔体  等离子激元  纳米激光器 介质层 激光技术领域  比值范围  光子器件 纵向厚度  小于  激光

IPC专利分类号：H01S5/34(20060101);H01S5/20(20060101);B82Y20/00(20110101)