文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201310228540.0

申 请 日：20130608

发 明 人：刘伟平 叶晓平 蒋云钟 苗圯 熊松松

申 请 人：北京品傲光电科技有限公司

申请人地址：100176 北京市大兴区经济技术开发区科创十四街20号院12号楼

公 开 日：20160810

公 开 号：CN103308977B

代 理 人：郑立明;赵镇勇

代理机构：11260 北京凯特来知识产权代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明公开了一种带宽可控的光纤光栅刻写方法及装置，其中，该方法包括：对光纤进行载氢处理，并去除其涂覆层；对激光发射器发射的预定波长的激光光束进行整形处理，并根据整形后的激光数据调节去除涂覆层后的该光纤的曝光区域；将整形处理的激光聚焦后经过相位掩膜板，对该光纤的曝光区域进行刻写，获得光纤光栅；上述方法可通过对应的激光发射器、曝光区域调节模块、柱面透镜与相位掩膜板实现。本发明公开的方法及装置所刻写的光纤光栅带宽可不受限于刻写紫外激光光斑尺寸和相位模板的啁啾度，有效的减少了制作成本；且该方法刻写的效率较高，重复性较强。

主 权 项：1.一种带宽可控的光纤光栅刻写方法，其特征在于，该方法包括：对光纤进行载氢处理，并去除其涂覆层；对激光发射器发射的预定波长的激光光束进行整形处理，并根据整形后激光数据调节去除涂覆层后的该光纤的曝光区域；其步骤包括：利用设置于转动台中的光束分析仪对该激光发射器发射的预定波长的激光数据进行采集与分析，并将分析结果发送至计算机；将该转动台旋转90°后，由该转动台中的微电机调谐光阑接收经过该光束分析仪的激光；并从计算机中读取发射激光数据的分析结果，且根据该结果对接收到的激光光束进行整形；根据整形后的激光数据控制所述转动台下方的电位移台调节所述光纤的曝光区域；将整形处理的激光聚焦后经过相位掩膜板，对该光纤的曝光区域进行刻写，获得光纤光栅。

关 键 词：刻写  曝光区域  激光发射器  相位掩膜板  光纤光栅 整形处理  光纤 涂覆层  去除  光纤光栅带宽  紫外激光光斑  激光光束 激光聚焦 激光数据  相位模板  预定波长  载氢处理  柱面透镜  可控的  整形  受限  带宽 发射  制作  

IPC专利分类号：G02B6/02(20060101);G03F7/20(20060101)