文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201310524991.9

申 请 日：20131029

发 明 人：王敏 王警卫 蔡万绍 刘兴胜

申 请 人：西安炬光科技有限公司

申请人地址：710119 陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号10号楼三层

公 开 日：20140129

公 开 号：CN103545716A

代 理 人：胡乐

代理机构：61211 西安智邦专利商标代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均为TM（或TE）；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TM（或TE）光进行透射，对TE（或TM）光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。

主 权 项：1.一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，包括半导体激光器叠阵，其特征在于：所述半导体激光器叠阵的所有巴条偏振态一致，均发出TE光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TE光进行透射，对TM光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。

关 键 词：偏振 束片  功率半导体激光  半导体激光器 加工光源  偏振态 反馈  光板  反射回激光器  四分之一波片  激光加工 透射  波片 光路  光沿  旋转  

IPC专利分类号：H01S5/40(20060101);H01S5/068(20060101);H01S5/06(20060101);G02B27/28(20060101);G02B7/182(20060101);B23K26/70(20140101)