文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201410405698.5

申 请 日：20140818

发 明 人：严群 王连连 倪烨韧 田磊 唐李晟

申 请 人：北京大学工学院包头研究院

申请人地址：014010 内蒙古自治区包头市青山区装备制造园区管理委员会B座403室

公 开 日：20141119

公 开 号：CN104157535A

语　　种：中文

摘　　要：本发明涉及等离子显示屏领域，具体涉及一种等离子显示面板用复合氧化镁薄膜及其制法和应用。该复合氧化镁薄膜包括作为基底层（2）的氧化镁膜层和微晶颗粒层（3），微晶颗粒层（3）包括氧化镁膜层及微晶颗粒，所述微晶颗粒包含氧化物微晶颗粒，所述氧化物微晶颗粒的氧化物与微晶颗粒层（3）的氧化镁膜层的氧化镁的摩尔比为0.4~24:1。该氧化镁薄膜通过经过两次旋转涂敷工艺和一次烧结工艺制备得到，改善了现有工艺需要先镀好氧化镁薄膜，再在氧化镁薄膜表面制备氧化镁微晶颗粒层的两步制备的方法，工艺效率更高。本发明所制备的复合氧化镁薄膜可应用在PDP等气体放电器件中，全白场亮度均匀性达到90%以上，放电电压降低5V以上。

主 权 项：1. 一种等离子显示面板用复合氧化镁薄膜，包括基底层（2）和微晶颗粒层（3），所述基底层（2）为氧化镁膜层，所述微晶颗粒层（3）包括氧化镁膜层及微晶颗粒，所述微晶颗粒包含氧化物微晶颗粒，所述氧化物微晶颗粒为氧化镁微晶颗粒或掺杂型氧化镁微晶颗粒，其中掺杂型氧化镁包含氧化镁和掺杂元素氧化物；所述氧化物微晶颗粒的氧化物与微晶颗粒层（3）的氧化镁膜层的氧化镁的摩尔比为0.4~24:1。

关 键 词：微晶  颗粒层 氧化镁薄膜  复合氧化  氧化镁膜  氧化物  薄膜  等离子显示面板  等离子显示屏 气体放电器件  白场亮度  放电电压 工艺效率 烧结工艺  旋转涂敷  氧化镁微  基底层  均匀性  摩尔比  氧化镁 制法

IPC专利分类号：H01J17/02(20060101);H01J17/49(20120101);H01J9/02(20060101)