专利详细信息
文献类型:专利
专利类型:发明专利
是否失效:否
是否授权:否
申 请 号:CN201310596793.3
申 请 日:20131122
申 请 人:中钞特种防伪科技有限公司 中国印钞造币总公司
申请人地址:100070 北京市丰台区科学城星火路6号
公 开 日:20160824
公 开 号:CN104656167B
代 理 人:肖冰滨;陈潇潇
代理机构:11283 北京润平知识产权代理有限公司
语 种:中文
摘 要:本发明提供一种光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的光学防伪产品,其易识别且难伪造。该光学防伪元件包括:基材,该基材包括相互对立的第一表面和第二表面;形成在所述基材的所述第一表面上的采样合成层;以及形成在所述基材的所述第二表面上的微图像层,该微图像层包括形成在所述基材的所述第二表面上的第一表面浮雕结构层和第二表面浮雕结构层、以及形成在所述第一表面浮雕结构层上的第一颜色功能层或形成在所述第二表面浮雕结构层上的第二颜色功能层,所述第一表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值小于所述第二表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值,而且所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成从而形成图像。
主 权 项:1.一种光学防伪元件,该光学防伪元件包括:基材,该基材包括相互对立的第一表面和第二表面;形成在所述基材的所述第一表面上的采样合成层;以及形成在所述基材的所述第二表面上的微图像层,该微图像层包括形成在所述基材的所述第二表面上的第一表面浮雕结构层和第二表面浮雕结构层、以及形成在所述第一表面浮雕结构层上的第一颜色功能层或形成在所述第二表面浮雕结构层上的第二颜色功能层,所述第一表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值小于所述第二表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值,而且所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成从而形成图像。
关 键 词:第二表面 浮雕结构 第一表面 基材 光学防伪元件 微图像层 采样 功能层 合成层 光学防伪产品 易识别 合成 图像 伪造 对立
IPC专利分类号:G02B3/00(20060101);G02B5/18(20060101);B42D25/36(20140101)
参考文献:
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耦合文献:
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引证文献:
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二级引证文献:
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同被引文献:
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