文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201410858474.X

申 请 日：20141229

发 明 人：刘骢 D·H·康 D·王 C-B·徐 李明琦 C·吴

申 请 人：罗门哈斯电子材料有限公司

申请人地址：美国马萨诸塞州

公 开 日：20160120

公 开 号：CN105255246A

代 理 人：胡嘉倩

代理机构：31100 上海专利商标事务所有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明提供的面漆组合物可以用于沉浸式光刻中以形成光抗蚀剂图形。所述面漆组合物包括溶剂系统，该溶剂系统包含1)由化学式(I)表示的第一有机溶剂，<Image file="DSA0000114419460000011.GIF" he="21" imgContent="undefined" imgFormat="GIF" wi="69"/>其中R1和R2为3-8个碳的烷基并且R1和R2的碳的总数目大于6；以及2)第二有机溶剂，所述第二有机溶剂是C4至C10一羟基醇。

主 权 项：1.用于沉浸式光刻的面漆组合物，包括：1)聚合物系统和2)溶剂系统，所述溶剂系统包括：(i)由化学式(I)表示的第一有机溶剂， 其中R₁和R₂为3-8个碳的烷基并且R₁和R₂的碳的总数目大于6；和(ii)第二有机溶剂，所述第二有机溶剂选自C4至C10一羟基醇。

关 键 词：有机溶剂  面漆组合物  溶剂系统  烷基  沉浸式光刻  光抗蚀剂  一羟基醇  总数目  包含1  大于  

IPC专利分类号：C09D7/00(20060101); C09D7/12(20060101); G03F7/09(20060101); G03F7/00(20060101)