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专利详细信息

一种发光二极管外延片及其生产方法       

文献类型:专利

专利类型:发明专利

是否失效:

是否授权:

申 请 号:CN201610739860.6

申 请 日:20160829

发 明 人:李志聪 王明洋 戴俊 闫其昂 孙一军 王国宏

申 请 人:扬州中科半导体照明有限公司

申请人地址:225009 江苏省扬州市开发区临江路186号

公 开 日:20180803

公 开 号:CN106206887B

代 理 人:江平

代理机构:32106 扬州市锦江专利事务所

语  种:中文

摘  要:一种发光二极管外延片及其生产方法,本发明涉及半导体光电子器件制造领域,在生长多量子阱有源区时,本发明在生长多量子阱有源区时,对其中的每一组结构层的生长的生长材料进行控制,循环进行2~12组结构层的生长,在生长每一组结构层时,依次生长AlxInyGa1‑x‑yN量子垒层、AlN晶核层、网状结构SiN薄层、InxGa1‑xN量子阱层和AlxGa1‑xN薄层。本发明工艺合理,制成的产品稳定性好,正品率高,避免了多量子阱生长遇到的In组分分散不均问题及QCSE现象的发生。

主 权 项:1.一种发光二极管外延片,包括依次外延设置在衬底同一侧的AlN成核层、AlGaN非掺杂层、n型AlGaN电子注入层、多量子阱有源区、AlGaN电子阻挡层和AlGaN空穴注入层;其特征在于:所述多量子阱有源区由呈周期设置的2~12组结构层组成,每一组结构层由依次设置的AlxInyGa1-x-yN量子垒层、AlN晶核层、网状结构SiN薄层、InxGa1-xN量子阱层和AlxGa1-xN薄层组成;x为0.01~0.1,y为0.05~0.2。

关 键 词:生长  多量子阱 组结构  薄层 区时  半导体光电子器件 发光二极管外延  产品稳定性  量子垒层  量子阱层  生长材料  网状结构  晶核层  正品率 制造  生产  

IPC专利分类号:H01L33/06(20100101);H01L33/14(20100101);H01L33/00(20100101)

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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