文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN97105602.1

申 请 日：19970102

发 明 人：孙华斌 邢桂平 彭作林 陈文华 王树华 杨新芳 王欣梅 霍鲁鹏

申 请 人：中国人民解放军济南军区联勤部军事医学研究所

申请人地址：250014 山东省济南市文化东路36号

公 开 日：20020123

公 开 号：CN1078188C

语　　种：中文

摘　　要：本发明属于功能搪、陶瓷材料及其制备技术领域。利用半导体光催化原理研制成一种自动杀菌灭毒的搪、陶瓷材料。该搪、陶瓷材料在微量水和光能作用下，利用半导体催化剂光解水产生的高活性自由基将细菌和病毒氧化打碎成无机物或矿物而彻底灭菌消毒。该材料中的半导体催化剂由TiO<Sub>2</Sub>、ZnO、SnO<Sub>2</Sub>、WO<Sub>3</Sub>按一定比例混合组成。再将复合半导体光催化剂加入普通瓷釉中混匀，研制成具有自洁功能的瓷釉(化学消毒和卫生消毒)。自消毒搪陶瓷材料系由自洁瓷釉在适当的工艺条件下烧制而成。该搪、陶瓷材料可用于卫生洁具、厨房用具、饮食和个人卫生用品的制作，具有杀菌灭毒功能，且消毒有自动、彻底。长期和经济等优点。

主 权 项：1.一种自动消毒的搪、陶瓷材料的制备方法，其特征在于：采用一种特殊的功能瓷釉，瓷釉中含有复合半导体光催化剂：TiO₂、ZnO、SnO₂和WO₃；复合半导体光催化剂占功能瓷釉的比例范围为3％-30％；复合半导体光催化剂中，TiO₂占80％，ZnO、SnO₂和WO₃总共占20％；自动消毒的搪、陶瓷材料是在未上瓷釉的搪、陶瓷材料表面涂上特殊的功能瓷釉烧制而成；特殊的烧制工艺为3-6小时由室温升到600℃-800℃，然后恒温4-6小时，再用3-6小时降至室温。

关 键 词：陶瓷材料 消毒 半导体催化剂  杀菌灭毒  瓷釉 自洁  无机物  半导体光催化  个人卫生用品 制备技术领域  复合半导体 厨房用具  工艺条件  光催化剂  光能作用  普通瓷釉  卫生洁具  高活性  微量水 自由基  灭菌  光解  混匀  矿物  烧制  研制  细菌  病毒  水产  饮食  卫生  

IPC专利分类号：C04B33/13