登录    注册    忘记密码

专利详细信息

电镀设备       

文献类型:专利

专利类型:发明专利

是否失效:

是否授权:

申 请 号:CN201810787980.2

申 请 日:20180718

发 明 人:彭坤增 苏柏谚 李春颖 陈冠宪 顾伟弘 杜昱陞

申 请 人:明志科技大学

申请人地址:中国台湾新北市泰山区贵子里工专路84号

公 开 日:20201030

公 开 号:CN109537031B

代 理 人:许志勇;李有财

代理机构:11315 北京国昊天诚知识产权代理有限公司

语  种:中文

摘  要:本发明公开一种电镀设备,适用于一待电镀工件,包括有电镀槽、靶材、吸附件及电源供应器。电镀槽储放有电镀液,待电镀工件和靶材是置放在电镀槽中,且待电镀工件和靶材的至少一部分接触电镀液,吸附件是置放在电镀槽中,且吸附件的至少一部分接触电镀液。电源供应器的正极是与靶材电连接,电源供应器的负极是与待电镀工件和吸附件电连接。当电源供应器施加一操作电流,靶材释放金属离子溶于电镀液中,金属离子还原成金属原子,并在待电镀工件的表面上形成电镀层,同时吸附件吸附电镀液中的碳离子。

主 权 项:1.一种电镀设备,适用于一待电镀工件,其特征在于,所述电镀设备包括:一电镀槽,储放一电镀液,所述待电镀工件是置放在所述电镀槽中,且所述待电镀工件的至少一部分接触所述电镀液;一靶材,所述靶材的材质是导体材料,所述靶材置放在所述电镀槽中,且所述靶材的至少一部分接触所述电镀液;一吸附件,置放在所述电镀槽中,且所述吸附件的至少一部分接触所述电镀液;所述吸附件是选用可与所述待电镀工件产生电位差的材质;以及一电源供应器,具有一正极和一负极,所述正极是与所述靶材电连接,所述负极是与所述待电镀工件和所述吸附的电连接;当所述电源供应器施加一操作电流,所述靶材释放金属离子溶于所述电镀液中,所述金属离子还原成金属原子,并在所述待电镀工件的表面上形成一电镀层,同时所述吸附件吸附所述电镀液中的碳离子;当所述靶材的材质是铜合金或镍合金时,所述吸附件的材质是发泡镍;当所述靶材的材质是金或铂时,所述吸附件的材质是不织布。

关 键 词:待电镀工件  电镀液  吸附件  靶材  电源供应器 电镀槽 金属离子  电连接  正极  负极  操作电流  电镀设备 金属原子 电镀层 碳离子 吸附  还原  施加  释放  

IPC专利分类号:C25D17/00(20060101);C25D21/00(20060101)

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心