文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201811270781.0

申 请 日：20181029

发 明 人：王蔚茹 张昊宇 李欣毅 张巍巍 胡春华

申 请 人：中钞特种防伪科技有限公司 中国印钞造币总公司

申请人地址：100070 北京市丰台区科学城星火路6号

公 开 日：20200505

公 开 号：CN111098620A

代 理 人：陈潇潇;肖冰滨

代理机构：11283 北京润平知识产权代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明实施例提供一种光学防伪元件、光学防伪元件的制备方法及光学防伪产品，属于防伪领域。该光学防伪元件包括透明的基材；第一表面浮雕结构层，位于基材一侧表面的至少部分区域上；第一镀层，形成在第一表面浮雕结构层的表面的至少部分区域上；第二表面浮雕结构层，形成在基材另一侧表面的至少部分区域上；第二镀层，形成在第二表面浮雕结构层表面的至少部分区域上，且第二镀层与第一镀层存在重叠区域。藉此，实现了光学防伪元件的多角度识别。第一镀层和第二镀层中的至少一者为干涉光变镀层；第一镀层和第二镀层中的至少一者被采用精准镂空的方法形成。

主 权 项：1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：透明基材；第一表面浮雕结构层，位于所述基材表面的至少部分区域上；第一镀层，形成在所述第一表面浮雕结构层表面的至少部分区域上；第二表面浮雕结构层，形成在所述第一镀层的表面，且覆盖所述基材的至少部分区域；第二镀层，形成在所述第二表面浮雕结构层表面的至少部分区域上，且该第二镀层与所述第一镀层存在重叠区域。

关 键 词：镀层 光学防伪元件  浮雕结构  基材 第二表面  第一表面  光学防伪产品  防伪领域  重叠区域  镂空 干涉光  透明的  制备  

IPC专利分类号：B42D25/324(20140101);B42D25/328(20140101);B42D25/378(20140101);B42D25/445(20140101)