文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201911421523.2

申 请 日：20191231

发 明 人：张传维 刘贤熠 郭春付 李伟奇 刘世元

申 请 人：武汉颐光科技有限公司

申请人地址：430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区汤逊湖北路33号华工科技园·创新基地办公研发楼18栋4层5、6、7室

公 开 日：20200529

公 开 号：CN111209661A

代 理 人：谢洋

代理机构：42242 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙)

语　　种：中文

摘　　要：本发明涉及一种光谱椭偏测量带宽和数值孔径退偏效应修正建模方法及装置。通过穆勒矩阵椭偏仪测量，一次获得待测样品的全部穆勒矩阵元素，进而获得样品的退偏信息。通过合理假设带宽和数值孔径的分布函数，组合不同的分布下的节点和权重累加得到样品正向建模平均穆勒矩阵。当带宽和数值孔径的分布随机，均采用高斯分布的节点和权重，将二维计算简化成一维计算，大大提高计算效率。最后通过非线性回归算法拟合提取待测样品参数的光学常数和厚度值等信息。本发明可以实现光谱椭偏测量带宽和数值孔径退偏效应的修正，对各种光学薄膜器件，以及各种纳米制造过程中在线测量的快速数据分析，提取纳米材料光学和集合参数。

主 权 项：1.一种光谱椭偏测量带宽和数值孔径退偏效应修正建模方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，利用穆勒矩阵光谱椭偏仪测量待测样品，得到样品的测量反射穆勒矩阵M_sample；S2，选择带宽分布函数，建立带宽退偏光学模型；S3，选择数值孔径对应的入射角分布函数，建立数值孔径退偏光学模型；S4，组合带宽和数值孔径退偏光学模型，建立积分公式；S5，根据分布选择对应的高斯积分正交多项式，得到对应节点和权重，得到积分后的光学建模平均穆勒矩阵M_model；S6，利用非线性回归算法，将测量穆勒矩阵光谱和正向建模穆勒矩阵光谱匹配，提取光学纳米薄膜光学和几何参数。

关 键 词：数值孔径 带宽 光谱椭偏测量  矩阵  待测样品  退偏效应  建模  权重  修正  光学薄膜器件 穆勒矩阵元素  非线性回归  椭偏仪测量  分布函数  高斯分布  光学常数  计算效率  快速数据 纳米材料  纳米制造  一维计算  在线测量  累加  二维  拟合  算法  退偏  正向  集合  分析  

IPC专利分类号：G06F30/20(20200101);G06F17/16(20060101);G06F17/18(20060101);G01B11/00(20060101);G01B11/06(20060101);G01B21/04(20060101);G01N21/21(20060101);G01N21/27(20060101)