文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN202010943176.6

申 请 日：20200909

发 明 人：刘晓燕 刘洪亮 张亚文 陈勇

申 请 人：重庆科技学院

申请人地址：401331 重庆市沙坪坝区大学城东路20号

公 开 日：20201211

公 开 号：CN112058614A

代 理 人：姚坤

代理机构：50216 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙)

语　　种：中文

摘　　要：本发明公开了一种动态调控离子液体浸润性的新方法，首先沿垂直于c轴晶轴切割铁电铌酸锂单晶，得到暴露+Z面和/或‑Z面的铌酸锂单晶薄片，并对其进行清洁；将离子液体滴在所述铁电铌酸锂单晶薄片的+Z面或‑Z面；最后改变所述铁电铌酸锂单晶薄片的温度从而调控所述离子液体的浸润性。采用本发明方案的显著效果是通过对铁电铌酸锂单晶薄片实施升、降温操作来调控离子液体的浸润性，由于离子液体具有不挥发性及很高的热稳定性，升温降温对离子液体性能的影响可忽略，为离子液体浸润性的动态调控提供了一种具有实际应用潜力的新方法。

主 权 项：1.一种动态调控离子液体浸润性的新方法，其特征在于按照以下步骤进行：沿垂直于c轴晶轴切割铁电铌酸锂单晶，得到暴露+Z面和/或-Z面的铌酸锂单晶薄片，并对其进行清洁；将离子液体滴在所述铁电铌酸锂单晶薄片的+Z面或-Z面；最后改变所述铁电铌酸锂单晶薄片的温度从而调控所述离子液体的浸润性。

关 键 词：离子液体 铌酸锂单晶  浸润性 铁电 动态调控  热稳定性 应用潜力  挥发性 调控  晶轴  切割  垂直  暴露  清洁  

IPC专利分类号：B05D7/24(20060101);B05D7/00(20060101);B05D3/02(20060101);C30B29/30(20060101)