文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN01127398.4

申 请 日：20010912

发 明 人：王修德 王欣梅 邢桂平 孙华斌 唐木涛

申 请 人：中国人民解放军济南军区联勤部军事医学研究所

申请人地址：250014 山东省济南市文化东路36号

公 开 日：20020306

公 开 号：CN1338757A

语　　种：中文

摘　　要：一种表面放射性污染清除方法,属于环境污染控制与清除技术领域。本方法是将聚乙烯醇缩合醛树脂加热溶于水醇溶液中,加入络合剂、助溶剂、增塑剂等分散制备得到一种液态成膜剂,将该成膜剂均匀地涂布于受污染物体表面,待干燥后将薄膜剥离,放射性污染物随之被清除;亦可在清洁物体表面涂布成膜剂,成膜后可有效防止表面放射性污染。本发明提出的表面放射性清除膜具有如下优点:高分子树脂含量低,涂布使用方便;不使用有机溶剂,不会造成环境污染;除污和防污效率高,适用范围广;除污成本低,不产生放射性废液,没有二次污染,后处理简单。

主 权 项：1.一种表面放射性污染清除方法，其特征在于：a.将聚乙烯醇缩合醛树脂溶于水醇溶液中，然后加入络合剂、助溶剂、增塑剂等分散制备得到一种液态成膜剂。b.将上述成膜剂均匀地涂布于受污染物体表面，待4～5小时干燥成膜后将薄膜剥离，放射性污染物随之被清除；在清洁物体表面均匀涂布成膜剂，待4～5小时干燥成膜后，可有效防止进行放射性物质操作时引起的表面污染。

关 键 词：放射性污染 除污  放射性污染物 环境污染控制 清洁物体表面  放射性废液 高分子树脂  液态成膜剂  后处理  聚乙烯醇  水醇溶液  涂布成膜  物体表面  有机溶剂  成膜剂 络合剂  增塑剂  助溶剂  树脂  成膜 二次  防污  缩合  薄膜  污染 放射性 干燥  剥离  

IPC专利分类号：G21F9/28