文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN01136303.7

申 请 日：20011009

发 明 人：申家镜 彭鸿雁 邵春雷 魏雪峰

申 请 人：黑龙江省光电技术研究所

申请人地址：157000 黑龙江省牡丹江市光华街106-1号

公 开 日：20030423

公 开 号：CN1412346A

语　　种：中文

摘　　要：紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法，其特征是，它是用紫外光对直流辉光放电化学气相沉积金刚石膜反应腔中的生长衬底表面进行照射。用该方法制备金刚石薄膜具有生长速度快和质量高的优点。

主 权 项：紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法，其特征是，它是用紫外光对直流辉光放电化学气相沉积金刚石膜反应腔中的生长衬底表面进行照射。

关 键 词：制备金刚石薄膜  紫外光  化学气相沉积金刚石  化学气相沉积 生长衬底表面  直流辉光放电 辉光放电 生长速度  反应腔  照射  复合  

IPC专利分类号：C23C16/27;C23C16/503