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专利详细信息

核黄素及其衍生物组合物暗反应产生自由基的方法和应用       

文献类型:专利

专利类型:发明专利

是否失效:

是否授权:

申 请 号:CN200310109610.7

申 请 日:20031010

发 明 人:张红雨 孙振令

申 请 人:山东省生物信息工程技术研究中心 张红雨

申请人地址:255091 山东省淄博市张店区张周路山东理工大学

公 开 日:20050413

公 开 号:CN1605253A

代 理 人:蔡绍强

代理机构:37212 青岛发思特专利商标代理有限公司

语  种:中文

摘  要:一种利用核黄素及其衍生物组合物暗反应产生自由基的方法和应用,其所述的核黄素及其衍生物分散在表面活性剂胶束溶液中,加低氧化还原电位的还原剂混匀,获得暗反应自由基发生组合物;其质量组成是:核黄素及其衍生物∶表面活性剂胶束溶液∶低氧化还原电位的还原剂=1∶10~3000∶0.1~20。该组合物在黑暗条件下能够大量产生自由基,能够有效地抑制真菌的生长,且不易产生抗性,可用作防治微生物引起的疾病和农作物病害的药物,也可在制备杀菌剂和降解暗环境污染物制剂中的应用;作黑暗环境下的灭菌和环境处理,为核黄素衍生物的广泛应用奠定了基础。

主 权 项:1.一种核黄素及其衍生物组合物暗反应产生自由基的方法,其特征是所述的核黄素及其衍生物包括核黄素及核黄素的衍生物;所述的核黄素及其衍生物分散在表面活性剂胶束溶液中,加低氧化还原电位的还原剂混匀,获得暗反应自由基发生组合物;其质量组成是:核黄素及其衍生物∶表面活性剂胶束溶液∶低氧化还原电位的还原剂=1∶10~3000∶0.1~20。

关 键 词:核黄素 自由基 氧化还原电位  表面活性剂  还原剂  组合物 胶束  不易产生抗性  核黄素衍生物  防治微生物  环境污染物  农作物病害 衍生物组合  黑暗环境  黑暗条件  环境处理  杀菌剂  灭菌  真菌  混匀  降解  生长  疾病  

IPC专利分类号:A01N43/90

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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