文献类型：专利

专利类型：实用新型

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201120352723.X

申 请 日：20110920

发 明 人：黄成强 汪明刚 陈波 李超波

申 请 人：中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心

申请人地址：314006 浙江省嘉兴市南湖区凌公塘路3339号(嘉兴科技城)

公 开 日：20120530

公 开 号：CN202259153U

代 理 人：赵芳;徐关寿

代理机构：33100 浙江杭州金通专利事务所有限公司

语　　种：中文

摘　　要：一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，包括腔体，所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电极接口、分子泵接口，所述腔体的上端安装有顶盖和石英盖，所述腔体内安装有匀气盘、穿过腔体底部和匀气盘的工艺气体管道，所述工艺气体管道的气体出口设置在匀气盘上方并正对匀气盘中心；所述匀气盘的中间开有大于下电极直径的下电极通口，所述匀气盘上开有多个通气孔，横向上相邻所述通气孔的间距是等差数列递增，纵向上相邻所述通气孔的间距从中心到边缘是等差数列递减。本实用新型的有益效果：等离子体密度最大、均匀性最好、能量最高；成本低、可靠性高。

主 权 项：1. 一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的刻蚀腔，包括腔体，所述腔体上开有进出片口、机械泵接口、下电极接口、分子泵接口，所述腔体的上端安装有顶盖和石英盖，其特征在于：所述腔体内安装有匀气盘、穿过腔体底部和匀气盘的工艺气体管道，所述工艺气体管道的气体出口设置在匀气盘上方并正对匀气盘中心；所述匀气盘的中间开有大于下电极直径的下电极通口，所述匀气盘上开有多个通气孔，横向上相邻所述通气孔的间距是等差数列递增，纵向上相邻所述通气孔的间距从中心到边缘是等差数列递减。

关 键 词：气盘  腔体  通气孔  工艺气体管道  等差数列  等离子体密度 电极接口  电极直径  干法刻蚀 气体出口  无机材料 顶盖  分子泵  机械泵  均匀性  刻蚀机 刻蚀腔  电极 上端  基板  石英  底部  坚硬  大于  

IPC专利分类号：H01J37/32(20060101)