文献类型：专利

专利类型：实用新型

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN202323520909.3

申 请 日：20231222

发 明 人：闻梦瑶 明帅强 李明 王浙加 李国庆 戴昕童 车睿远 张亦哲

申 请 人：嘉兴科民电子设备技术有限公司

申请人地址：314006 浙江省嘉兴市南湖区亚太路778号(嘉兴科技城)9号303室

公 开 日：20240723

公 开 号：CN221398040U

代 理 人：顾艳宇

代理机构：北京众达德权知识产权代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本公开涉及双腔ALD设备技术领域，尤其涉及一种双腔ALD设备的底部匀气板及双腔ALD设备。一种双腔ALD设备的底部匀气板，包括板体、进气腔体和出气腔体，进气腔体和出气腔体设置你在板体上，进气腔体包括第一进气腔室和第二进气腔室，第一进气腔室和第二进气腔室设置设置有进气接口和多个反应腔出气孔，多个反应腔出气孔设置在板体靠近反应腔的一面上，进气接口设置在板体与反应腔相背的一面上，第一进气腔室和第二进气腔室的多个反应腔出气孔交替间隔设置；出气腔体设置有抽气接口和多个反应腔抽气孔，多个反应腔抽气孔与多个反应腔出气孔设置在板体的板面两侧。本公开使反应腔室的反应介质在进出过程中更加均匀地分布于腔体内部，使实验结果更加稳定。

主 权 项：1.一种双腔ALD设备的底部匀气板,其特征在于，包括板体、进气腔体和出气腔体，所述进气腔体和所述出气腔体设置你在所述板体上，其中，所述进气腔体包括第一进气腔室和第二进气腔室，所述第一进气腔室和所述第二进气腔室设置设置有进气接口和多个反应腔出气孔，多个所述反应腔出气孔设置在所述板体靠近反应腔的一面上，所述进气接口设置在所述板体与所述反应腔相背的一面上，所述第一进气腔室和所述第二进气腔室的多个所述反应腔出气孔交替间隔设置；所述出气腔体设置有抽气接口和多个反应腔抽气孔，多个所述反应腔抽气孔与多个反应腔出气孔设置在所述板体的板面两侧。

关 键 词：反应腔  进气腔室  板体  出气孔  双腔 出气腔体  进气腔体  进气接口  抽气孔  匀气板  设备技术领域  板面两侧  抽气接口  反应腔室  交替间隔  腔体内部  相背  

IPC专利分类号：C23C16/455