会议论文详细信息
廉价制备大面积金刚石膜的高功率直流等离子体喷射设备的研制
文献类型：会议
作者单位：省科学院机电一体化中试基地(石家庄) 科技大学材料系
会议文献：'96中国材料研讨会论文集(功能材料)
会议名称：'96中国材料研讨会
会议日期：19961117
会议地点：北京
主办单位：中国材料研究学会
出版日期：19961117
语 种：中文
摘 要：介绍了在８６３新材料领域资助下最新研制成功的１００ｋＷ级高功率直流等离子体喷射（ＤＣ Ｐｌａｓｍａ Ｊｅｔ）金刚石膜沉积系统。利用该系统在氩气－氢气－甲烷气体系中进行了初步的工艺试验，经过４０ｈ的连续运行，可在φ１１０ｍｍ的基片上沉积出中心厚１．９ｍｍ，边沿厚１．６ｍｍ的金功石膜，平均生长速率达４４μｍ／ｈ。由于采用了半开放式气体循环系统，可大大降低气体的消耗，从而可大幅度地降低金刚石厚膜的制备成本。
关 键 词：金刚石膜 等离子体喷射
分 类 号：O613.71] O484
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