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会议论文详细信息

离子注入多层结构的模拟       

文献类型:会议

作  者:牛国富 阮刚

作者单位:复旦大学微电子学研究所 中国科学院上海冶金研究所

会议文献:全国第六届IC CAD学术年会论文集

会议名称:全国第六届IC CAD学术年会

会议日期:19911001

会议地点:南京

主办单位:中国电子学会半导体与集成技术学会

出版日期:19910100

语  种:中文

关 键 词:离子注入 多层结构 数值模拟 集成电路工艺 蒙特卡罗模拟

分 类 号:TN305.3]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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