会议论文详细信息
原子层沉积ALD技术的材料表面防护应用
文献类型：会议
作者单位：中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心
会议文献：2014中国功能材料科技与产业高层论坛论文集
会议名称：2014中国功能材料科技与产业高层论坛
会议日期：20140826
会议地点：西安
主办单位：中国仪器仪表学会仪表功能材料分会
出版日期：20140826
学会名称：中国仪器仪表学会仪表功能材料分会
语 种：中文
摘 要：本文以Al2O3和TiO2为基础材料,对比了原子层沉积单一材料层和Al2O3/TiO2,叠层等不同工艺条件下镀膜对阳极氧化铝衬底的封孔效果和抗腐蚀性能影响。SEM及染色实验表明原子层沉积工艺能够有效的进行阳极氧化铝材料的孔填充,并最终实现封孔。镀膜厚度和工艺温度是镀膜抗腐蚀性能的重要影响因素。酸性点滴和盐雾实验表明,薄膜的阻隔效果明显,随着镀膜厚度的增加,抗腐蚀性能提高,
关 键 词：原子层沉积 材料表面 ALD
分 类 号：TB306]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
