会议论文详细信息
SiO2/nc-Si/SiO2多层膜结构的非线性光学性质研究
文献类型：会议
作者单位：南京大学电子科学与工程学院, 固体微结构物理国家重点实验室,江苏,南京210093
会议文献：第十三届全国固体薄膜学术会议论文集
会议名称：第十三届全国固体薄膜学术会议
会议日期：20120801
会议地点：烟台
主办单位：中国电子学会
出版日期：20120800
语 种：中文
摘 要：纳米硅(nc-Si)材料的非线性折射率系数比单晶体Si和SiO2材料分别大两个和四个数量级，这为光开关、光调制、以及波长转换等光器件的应用提供了一种新颖的材料，因而近几年来，引起了国际上许多研究小组的兴趣和关注，其中基于nc-Si材料的全光逻辑门和波长转换的研究也已取得了初步进展。
分 类 号：TN3] TN2
参考文献：
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耦合文献：
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引证文献：
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同被引文献：
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