会议论文详细信息
直流磁控溅射法在玻璃上沉积制备金属镍膜的研究
文献类型：会议
作者单位：河北工程大学土木工程学院材料工程系 邯郸 056038
会议文献：中国真空学会2012学术交流会论文集
会议名称：中国真空学会2012学术交流会
会议日期：20120901
会议地点：兰州
主办单位：中国真空学会
出版日期：20120900
语 种：中文
摘 要：金属镍膜可用在电磁波屏蔽、纤维传感器，手机、平板电脑保护玻璃装饰等。目前制备镍薄膜的方法主要有溅射法、化学气相沉积法(CVD)法、化学电镀法等[1-2]。国内大多采用化学电镀法，此方法需要在反应液中进行，对环境可能产生危害[3]，且制备的薄膜不够均匀，附着力差。
关 键 词：磁控溅射 镍膜 液晶显示 真空
分 类 号：TB3] TN3
参考文献：
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